旧スタッフ

教員
中島 寛 名誉教授(グローバルイノベーションセンター)
令和3年3月定年退職
博士研究者(PD)
温 偉辰 博士(総合理工学研究院)
受け入れ期間:令和2年10月~令和3年3月
山本 圭介 博士(産学連携センター)
研究テーマ:高性能ULSIのための歪みGe MOSFETの研究開発
受け入れ期間:平成24年4月~平成25年1月
Yang Haigui 博士(産学連携センター)
研究テーマ:局所酸化濃縮による歪みGe-On-Insulator基板の開発
受け入れ期間:平成19年9月~平成23年9月
井 誠一郎 博士(産学連携センター)
研究テーマ:歪Si-SGOIウェーハの電子顕微鏡観察に関する研究
受け入れ期間:平成16年4月~平成18年3月
Wang Dong 博士(産学連携センター)
研究テーマ:次世代LSI用高機能Siウェーハの開発, 電気的欠陥の高感度評価とマッピング
(文部科学省・科学技術振興調整費, 産学官共同研究の効果的な推進)
受け入れ期間:平成16年4月~平成18年3月
Zhao Liwei 博士(産学連携センター)
研究テーマ:高誘電率ゲート絶縁膜の低温形成に関する研究
受け入れ期間:平成14年4月~平成16年3月
Wang Dong 博士(産学連携センター)
研究テーマ:高速LSI用歪SOIウェーハの研究開発
(文部科学省・科学技術振興調整費 先導的研究等の推進)
受け入れ期間:平成13年12月~平成16年3月
Wang Junli 博士(ベンチャービジネスラボラトリー)
研究テーマ:高誘電率絶縁膜の低温形成に関する研究, 高品質多結晶シリコンの低温形成に関する研究
受け入れ期間:平成13年10月~平成15年3月
Gao Dawei 博士(先端科学技術共同研究センター)
研究テーマ:新有機エレクトロルミネッセンス デバイスの創成技術に関する研究開発 -高信頼性保護膜の開発と評価-
(通商産業省「地域コンソーシアム研究開発事業」)
受け入れ期間:平成10年4月~平成11年12月
Gao Junsi 博士(総合理工学研究科)
研究テーマ:ECRプラズマスパッタリングによるSiエピタキシャル成長に関する研究
受け入れ期間:平成10年4月~平成11年3月
Gao Junsi 博士(総合理工学研究科)
研究テーマ:ECRプラズマスパッタリングによるSiエピタキシャル成長に関する研究
受け入れ期間:平成9年10月~平成10年3月
Liu Tichun 博士(総合理工学研究科)
研究テーマ:プラズマスパッタリングによる薄膜堆積に関する研究
受け入れ期間:平成 8年5月~平成 9年8月

秘書
三好 泉
平成28年8月~令和2年3月
後藤 美智子
平成23年8月~平成28年7月
西 友季子
平成18年8月~平成23年7月
宮西 まゆみ
平成17年4月~平成18年7月
渡辺 朗子
平成16年4月~平成17年3月
村田 奈々
平成14年9月~平成16年3月
明田 由香
平成13年4月~平成14年8月
東城 恵里子
平成11年10月~平成13年3月
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